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      離子滲氮爐的工藝特點

      作者:admin 發布日期: 2022-05-27 二維碼分享

      普通的離子滲氮爐的工藝需要3~10mbar的氣體壓力才能..等離子與基體的完全接觸。表面有小凹槽或螺紋等復雜形狀的基片,武漢離子滲氮爐設備的參數分布不同,會引起周圍電場的變化,從而改變該區域的離子濃度和離子轟擊能量。如果采用常規的等離子滲氮,離子碰撞更容易發生在等離子鞘層中。


      在射頻等離子體設備的氮化過程中,等離子體的產生與襯底偏壓的控制是分開的,因此可以分別控制離子能量和襯底表面流量。由于較低的工作氣壓,滲氮效率可以提高。低能DC輝光放電用于產生氮化用的NH自由基。這些高活性自由基用于滲氮。整個過程需要外接電源加熱工件,過程類似氣體滲氮。這個過程不僅可以控制表面拓撲,還可以選擇是否形成復合層??梢钥刂茝秃蠈拥暮穸群蛿U散層的深度,而不改變表面結構的特性。如果金屬表面有狹窄的縫隙和孔洞,通過這種工藝可以很容易地實現滲氮。


      傳統的離子滲氮工藝采用DC或脈沖異常輝光放電,對滲氮低合金鋼和工具鋼有效,但對不銹鋼尤其是奧氏體不銹鋼無效。CrN在高溫滲氮過程中會析出,所以金屬表面非常堅硬耐磨,但缺點是容易腐蝕。該工藝制備的改性層中含有一種被稱為膨脹奧氏體的富氮層,這種富氮層已被低溫低壓放電技術成功解決。

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